W-150A/B-6K
微波等离子化学气相沉积系统
MPCVD(Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition)



系统特点:
·采用方位换向对称方式微波耦合,来提高微波的均匀性
·稳定沉积面积20cm2
·最大功率达到6KW
·使用纯净的石英窗
·采用不锈钢反应腔,能耐高温
·高压力控制,产生高密度单模式等离子体
·使用高精度气体质量流量计,高可靠性稳定的压力控制系统
·稳定的微波输入


设备的优势:
·反应可控,能长时间稳定工作在6KW
·所有电子设备中采用微波,没有电极放电,没有金属污染
·高功率高密度等离子体稳定在离石英窗一定位置,减少硅的析出
·参照C/H/O比例表,对反应物有更大的选择余地
·采用高效散热的样品台,最大散热能力可达15KW以上
·高效率微波利用率,氢等离子体直接作用于样品台加热时效率可达75%以上
·高可靠性,高实验重复性,高设备耐久性
·简捷的人机交互界面


应用:
·宝石
·复合热沉片
·精密加工刀具刀头
·红外光学窗口
·量子传感器/NV色心量子器件
·功率电子器件
·高增益激光器
·高纯电化学电极
·纳米金刚石材料
·第四代半导体材料