W-380A-10K
微波等离子化学气相沉积系统
MPCVD(Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition)





系统特点:
·采用方位换向对称方式微波耦合,来提高微波的均匀性
·稳定沉积面积44cm2/80cm2
·最大功率达到8KW/10KW
·使用纯净的石英窗
·采用特殊铝合金反应腔,能耐高温(碟形)
·高压力控制,产生高密度多模式等离子体(碟形)
·使用高精度气体质量流量计,高可靠性稳定的压力控制系统
·稳定的微波输入


设备的优势:
·反应可控,能长时间稳定工作在8KW/10KW
·所有电子设备中采用微波,没有电极放电,没有金属污染
·参照C/H/O比例表,对反应物有更大的选择余地
·采用高效散热的样品台,最大散热能力可达20KW以上
·高效率微波利用率,氢等离子体直接作用于样品台加热时效率可达75%以上
·高可靠性,高实验重复性,高设备耐久性
·简捷的人机交互界面


应用:
·宝石
·复合热沉片
·精密加工刀具刀头
·红外光学窗口
·半导体wafer
·生物电极