W-180A-10K
微波等离子化学气相沉积系统
MPCVD(Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition)



·系统参数:

型号

W-180系列

供电电源

AC380±10% 三相五线制 50Hz/60Hz

系统总功率

14KW

微波输出功率

210KW

微波工作频率

2.45GHz

反应腔

不锈钢谐振腔

整机真空气密性

1.33×10-10 Pa·m3/s (1×10-9 Torr L/s

沉积台类型

水冷式沉积台

有效沉积面积

最大沉积面积Ф≥3英吋(76mm)

工作压力范围

132Kpa 10Torr220Torr

自动压力控制精度

±15 Pa (0.12 Torr)

真空泵抽速

旋转真空油泵(30m3/h

标准气路

五路MFC气路(可选配)

微波泄漏功率密度

1mw/cm2

控制系统

PDS-MPCVD控制系统

观察窗

ICF70 4个,ICF34 4

运行工作环境

恒温20-24
相对湿度20%~70%(无凝露、无腐蚀性气体)

冷却水流量

41 L/min流量可调
进水/回水压差:≥0.42 M Pa

系统重量

500±5KG